Inframet 公司推出的 BLIQ 差分面源黑体，是一款精准的红外辐射源，专为热成像仪、IR FPA 模块系统的测试和校准而设计。通过单级热电冷却器与加热器相结合的设计，BLIQ 黑体在提供稳定、可调温度的同时，具备出色的温度均匀性和时间稳定性，成为热成像仪校准及温度标准实验室的理想工具。

卓越的温度控制与稳定性

BLIQ 黑体的核心技术在于其精确的温度调节系统，配备三个温度调节器：

1. Peltier 元件：有效实现0ºC至约100ºC的精确温度调节。

2. 液体冷却器：用于将黑体温度降至零度以下，确保低温需求。

3. 加热器：在温度超过100ºC时，进行温度调节。

这种设计使得 BLIQ 黑体能够提供极宽的温度范围，并确保非常高的温度稳定性。标准配置的温度稳定性为 ±2mK，而可选的高精度版本则能达到 1mK，为红外辐射源的校准提供了理想的条件。

超高温度均匀性与快速响应

BLIQ 黑体不仅温度稳定性高，而且具有优异的温度均匀性，在工作过程中，黑体发射面的温度差异极小：

• 对于 BLIQ-4D 型，温度均匀性可小于 0.002x(T-25)+0.02℃；

• 对于 BLIQ-6D 型，温度均匀性小于 0.005x(T-25)+0.02℃；

• 对于 BLIQ-12D 型，温度均匀性则控制在 0.01x(T-25)+0.02℃ 以内。

此外，BLIQ 黑体具有出色的升温和降温速率，能够快速响应温度变化：

• 升温速率：+0.40℃/秒（在25℃环境下）；

• 降温速率：+0.20℃/秒（在25℃环境下）；

• 稳定时间：BLIQ-4D 型小于 50秒，BLIQ-6D 型小于 90秒，BLIQ-12D 型小于 120秒。

这些性能使得 BLIQ 黑体在热成像仪测试过程中，能够迅速达到稳定温度，确保测试效率和准确性。

完美的抗电磁干扰性能

BLIQ 黑体与控制器的集成设计不仅优化了系统的操作和调节，还具备出色的 抗电磁干扰 (EMI) 能力。即使在具有电磁干扰的环境下，BLIQ 黑体依然能够稳定运行，确保测量结果的可靠性。

可选的专用保护罩

BLIQ 黑体配备专用罩，用户可选择使用干燥氮气填充罩内，保护黑体发射器免受结霜或湿气冷凝的影响。在此条件下，罩的设计可以有效防止外界湿气进入，确保设备的长期稳定运行。

技术规格：多种型号，满足不同需求

BLIQ 黑体提供多种型号和尺寸选项，以适应不同的测试需求：

理想应用：红外辐射源校准与测试

BLIQ 黑体是测试和校准 热成像仪、红外相机、红外焦平面阵列 (FPA) 模块系统的理想选择，广泛应用于：

• 热成像仪校准：通过精确的温度控制，为红外热成像仪提供标准辐射源。

• 国家标准实验室：用于温度标准的校准和验证，确保实验设备的高精度。

• 科研和工业测试：在高精度红外辐射源的需求下，BLIQ 黑体能够提供稳定的辐射输出，满足各种高标准测试要求。

结语

BLIQ 差分面源黑体凭借其卓越的温度稳定性、均匀性和快速响应特性，成为红外辐射源校准的最佳选择。无论是科研实验、工业测试，还是标准化校准，BLIQ 黑体都能为您的工作提供准确、可靠的支持。

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