在半导体晶体生长应用场景中能解决什么问题？在这个行业应用中其场景有什么特点？今天明策科技的小编就带大家来研究一下。

• 还原炉应用中，需多点位测温，有的点位位置较高对准目标比较困难。

• 需透视窗测量反应物。建议使用近红外短波测温。

• 直拉法应用中，一般集成于内部温控系统，安装空间有限。建议使用分体光纤式设备。

• 升温过程中，材料状态可能发生变化，导致发射率随之发生变化导致测温失准。建议使用双色测温仪

• 反应温度需维持在高温状态（还原炉约1080℃、直拉法约为1500℃）

• 可能有较强的电磁干扰，需要使用分体式光纤设备

• 熔融石英坩埚内部反应

• 腔室内填充保护性气体

还原炉